테마
삼성이 삼성파운드리포럼2023 에서 대규모 파운드리 투자를 발표했습니다. 한국의 평택과 용인, 미국의 테일러시과 오스틴시에 파운드리 설비를 증설할 계획 입니다.
파운드리 투자 발표 중 클린룸이 2027년까지 7배 이상 성장할 것이라는 언급이 있었습니다. 클린룸 관련주가 급등한 것은 이와 같은 전망에서 기인한 것으로 보입니다.
특히 삼성이 쉘퍼스트 전략을 발표하면서 클린룸의 선제적인 투자가 이뤄지는 방향으로 사업을 전개하고 있습니다. 쉘퍼스트 전략은 선제적으로 클린룸을 설치하고 향후 수요에 따라 장비들을 유동적으로 설치하는 것 입니다. 상대적으로 설치 비용이 낮지만 공사기간과 부지 선정 등의 시간이 많이 필요한 작업을 선제적으로 진행하는 것이 목적이라고 볼 수 있습니다.
TSMC 또한 파운드리 설비를 확장하고 있기 때문에 파운드리 경쟁은 더욱 치열해 질 것으로 보입니다.
미세공정으로 갈수록 미세 입자와 오염을 조절하는 것의 중요성이 더욱 커지면서 클린룸 시장은 지속 성장할 것으로 보입니다.
AI 반도체 수요가 급증하고 전기차 시장의 도래로 차량용 반도체 시장이 커지면서 시스템 반도체 시장 확장은 지속될 것으로 보입니다.
메모리 반도체의 최근 공급 과잉 또한 향후 개선된다면 메모리 분야 투자도 확대된다면 지속 클린룸 설치에 대한 수요가 몰릴 가능성도 있어 보입니다.
클린룸 관련주
1.신성이엔지(대장주)
시가총액 5800억원
2022년 매출액 6600억원 영업이익 210억원
2023년(컨센서스) 매출액 8000억원 영업이익 400억원
배당없음삼성파운드리포럼 이후 클린룸 관련주 중 가장 큰 상승폭을 보이고 있습니다.
연간 상승률도 가장 높은39.95%를 기록하고 있습니다.
2.케이엔솔
시가총액 1600억원
2022년 매출액 3888억원, 영업이익 220억원, 배당 300원/주(시가 배당률 2.38%)
2023년 컨센서스는 없음
케이엔솔은 원방테크에서 상호변경을 했습니다.
매출은 낮지만 비슷한 영업이익을 내고 있고, 배당까지 주고 있습니다.
외향적인 성장과 수익률을 유지한다면 주가의 리레이팅이 될 가능성이 있어보입니다.
23년 1분기까지는 매출이 높지 않게 나왔는데, 매출 상승을 지켜볼 필요가 있습니다.
3.한양이엔지
시가총액 3000억원
2022년 매출액 1조 1629억원 영업이익 753억원, 배당 600원/주 (시가배당율 3.56%)
2023년 컨센서스 없음
한양이엔지는 매출액, 영업이익, 배당 모두 동종업계에서 좋은 편에 속합니다.
성장과 배당 2마리의 토끼를 잡고 있는 것에 비해 시총은 다소 낮다고 보여 집니다.
4.성도이엔지
시가총액 750억원
2022년 매출액 7058억원 영업적자 50억원 배당 100원/주(시가배당율 2.16%)
2023년 컨센서스 없음
매출은 상대적으로 높은 편에 속하지만 사업 효율성이 부족한 탓인지 영업적자를 보고 있습니다.
주가도 상대적으로 많이 눌려있는 상황 입니다.
사업의 효율화와 클린룸 시장이 커진다면 매출액 대비 시가총액이 낮기 때문에 턴어라운드 가능성이 높아 보입니다.
반대로 예전의 영업이익 3% 기준으로만 복귀한다면 현재의 시가총액인 750억원 상당히 낮다고 볼 수 있습니다.
클린룸 기술
반도체 제조의 속도가 빠른 세계에서는 정밀도와 순도가 무엇보다 중요합니다. 미세 입자 하나하나가 최종 제품의 성능과 신뢰성에 상당한 영향을 미칠 수 있습니다. 원하는 수준의 우수성을 달성하기 위해 반도체 산업은 클린룸 기술에 크게 의존하고 있습니다. 클린룸은 공기 중의 입자, 오염물질 및 오염물질을 세심하게 최소화하는 제어된 환경을 제공하여 제조 공정에 최적의 조건을 보장합니다.
클린룸 기술의 중요성
클린룸 기술에는 엄격한 청결 기준을 준수하는 제어된 환경의 설계, 시공 및 유지보수가 포함됩니다. 이러한 환경은 웨이퍼 제작, 집적 회로 조립 및 패키징과 같은 다양한 공정에 필수적입니다. 주요 목표는 반도체 장치의 품질과 성능을 저하시킬 수 있는 공기 중 입자 및 기타 오염 물질의 존재를 최소화하는 것입니다.
공기 중 입자 및 오염 통제
클린룸은 사람, 장비 및 주변 환경을 포함한 다양한 출처에서 발생할 수 있는 공기 중 입자를 제어하도록 설계되었습니다. 먼지, 피부 조각 및 화학 잔류물과 같은 미세한 입자도 섬세한 공정을 방해하고 반도체 구성 요소의 기능을 손상시킬 수 있습니다. 클린룸은 전문 환기 시스템, 공기 필터 및 양압 기술을 사용하여 입자 수준이 감소된 환경을 조성함으로써 이러한 위험을 완화합니다.
HEPA(High-Efficiency Particle Air) 필터는 일반적으로 공기 중의 입자를 지정된 크기까지 가두어 제거하는 데 사용됩니다. 이 필터는 0.3미크론의 작은 입자를 포착하여 높은 수준의 공기 순도를 보장합니다. 또한, 클린룸 직원은 인체 오염을 최소화하기 위해 커버올, 장갑, 후드 및 마스크를 포함한 전문적인 클린룸 의류를 착용합니다.
온도, 습도 및 정전기 제어
입자 제어 외에도 클린룸은 반도체 제조 공정의 성능에 영향을 미칠 수 있기 때문에 정확한 온도 및 습도 수준을 유지합니다. 온도 제어는 화학 물질, 기질 및 섬세한 장비의 안정성을 보장하는 데 중요합니다. 습도 조절은 수분의 축적을 방지하여 반도체 장치에 결함을 일으킬 수 있습니다.
ESD(정전기 방전)는 반도체 제조에서 또 다른 중요한 문제입니다. 민감한 전자 부품은 아주 작은 정전기 방전으로도 손상되거나 파괴될 수 있습니다. 클린룸은 ESD 관련 문제로부터 보호하기 위해 전도성 바닥재, 접지된 워크스테이션 및 정전기 방지 장비와 같은 ESD 방지 조치를 시행합니다.
클린룸 분류
클린룸은 특정 크기 범위 내에서 입방미터당 허용 가능한 최대 입자 수를 기준으로 분류됩니다. 분류 시스템은 ISO 14644-1과 같은 국제 표준에 의해 정의됩니다. 클린룸 클래스가 높을수록 요구사항이 엄격해지고 허용 가능한 입자 수가 줄어듭니다.
클린룸의 과제와 혁신
클린룸 기술이 반도체 산업에 혁명을 일으켰지만, 그 도전이 없는 것은 아닙니다. 깨끗한 방을 만들고 유지하는 데는 상당한 투자와 지속적인 비용이 필요합니다. 또한 반도체 장치의 소형화 및 복잡성 증가에 대한 지속적인 추진은 클린룸 기술에 새로운 과제를 제기합니다. 산업이 발전함에 따라 고급 오염 통제, 더 높은 정밀도 및 더 엄격한 프로토콜의 필요성이 점점 더 중요해지고 있습니다.
연구원과 엔지니어는 이러한 문제를 해결하기 위한 혁신적인 솔루션을 개발하기 위해 지속적으로 노력하고 있습니다. 여기에는 더욱 엄격한 클린 룸 조건을 요구하는 나노 재료 및 나노 제작 기술의 사용과 같은 나노 기술의 발전이 포함됩니다. 또한 로봇 공학과 자동화의 통합은 인간의 개입을 최소화하여 오염의 위험을 줄입니다.
